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日立高新技術攜兩款最新量測檢測設備亮相第二屆射頻濾波器創(chuàng)新技術大會

摘要:日立高新技術受邀出席第二屆射頻濾波器創(chuàng)新技術大會并作演講報告,此次日立高新也滿載誠意帶著公司獨立自主,自行研發(fā)的兩款最新的量測檢測設備(CD-SEM)CS4800及(Review-SEM)CT1000參加了本次創(chuàng)新技術大會并與與會的各路專家學者展開了積極的互動。

  ICC訊  近期,第二屆射頻濾波器創(chuàng)新技術大會在武漢隆重召開。本屆大會以“創(chuàng)享·新生”為主題,由武漢敏聲新技術有限公司主辦,湖北省青年科技工作者協會、湖北省自然科學學會工作研究會、上海新硅聚合半導體有限公司、安徽云塔電子科技有限公司、無錫麥姆斯咨詢有限公司共同協辦。

  射頻濾波器作為無線通信射頻前端核心器件,對中國5G、6G通信產業(yè)發(fā)展具有至關重要的作用。射頻濾波器創(chuàng)新技術大會的舉辦,旨在為射頻濾波器創(chuàng)新技術和產業(yè)應用提供專業(yè)交流平臺,推動產學研合作,加速解決“卡脖子”問題,為射頻濾波器國產化貢獻更多的智慧成果和力量。

  為期兩天的大會共進行了28場主題報告,全方位呈現國內射頻濾波器行業(yè)的創(chuàng)新技術和產業(yè)現狀。同期舉辦的創(chuàng)新成果展區(qū),展示了多家企業(yè)的最新研究成果。日立高新技術受邀出席并作主題報告。

  作為意在深度參與到中國射頻濾波器產業(yè)發(fā)展的其中一員,此次日立高新也滿載誠意帶著公司獨立自主,自行研發(fā)的兩款最新的量測檢測設備(CD-SEM)CS4800及(Review-SEM)CT1000參加了本次創(chuàng)新技術大會并與與會的各路專家學者展開了積極的互動。

  自1984年S6000系列關鍵尺寸掃描電鏡誕生以來,Hitachi High-tech的量測檢測設備逐步成長發(fā)展壯大至今已有39年的歷史,此次展出的CS4800作為4~8英寸等小口徑晶圓專用的CD-SEM的回歸之作,可謂是眾望所歸。新設備在高自動化,多種晶圓尺寸對應的靈活性以及高吞吐量所展現出革新式技術必將為滿足各種類型的客戶端產品提供服務和支持。除了適用于半導體級的IC芯片制造之外,在MEMS領域,該設備也為了適配射頻前端的表/體聲波濾波器等大量被設置在手機通訊信號傳輸領域內的生產商,在設計上投入了大幅的革新技術。對射頻濾波器的量產起著具足輕重的作用。

  CS4800設備外觀

  作為一款面向小尺寸晶圓地Review SEM,CT1000除了觀察晶圓表面缺陷,以及形成缺陷的成分化學元素的分析等基本功能以外,還標準配備了至多傾斜55°的Tilt ADR功能更是為現場工程師提供了更加直觀的3D立體觀察影像,為改善制程工藝添磚加瓦。

 CT1000設備外觀


  90°垂直俯瞰圖&45°傾斜3D立體圖

  本次大會的成功舉辦,讓市場看到了國產射頻濾波器的許多新力量。每一份力量,匯聚而成的就是中國射頻濾波器的力量;每一絲進步和成就,匯聚而成的就是中國射頻濾波器的進步和成就。通過本次大會,整合射頻濾波器產業(yè)鏈各方資源,促進產業(yè)創(chuàng)新資源上下游流動,激發(fā)出更多創(chuàng)新性的想法和解決方案,為行業(yè)未來發(fā)展提供更多可能。通過分享技術見解和前沿思考,借助共同的智慧和能量,未來,射頻濾波器領域必定會攻克產業(yè)發(fā)展難題,取得更多突破成果,日立高新技術作為優(yōu)秀的設備廠商也會為中國科技自立自強做出更大貢獻。

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