【新品速遞】是德科技推出低頻噪聲分析儀

　　ICCSZ訊    是德科技公司近期宣布推出最新款的高性能先進(jìn)低頻噪聲分析儀(A-LFNA)，旨在實(shí)施快速、準(zhǔn)確、可重復(fù)的低頻噪聲測(cè)量。該版本配備全新用戶界面，并與是德科技的WaferProExpress軟件緊密集成——這是一款對(duì)半導(dǎo)體器件執(zhí)行自動(dòng)化晶圓級(jí)測(cè)量的平臺(tái)。作為這一大框架的組成部分，該平臺(tái)能讓工程師更好地理解器件和電路中的噪聲。相比之下，獨(dú)立系統(tǒng)要達(dá)到同樣目標(biāo)，需要進(jìn)行大量復(fù)雜測(cè)量。

　　當(dāng)今的半導(dǎo)體器件表征工程師通常希望采用靈活、可擴(kuò)展的噪聲測(cè)量系統(tǒng)。他們尤其需要一個(gè)功能強(qiáng)大的綜合性平臺(tái)，以便將先進(jìn)的低頻器件噪聲測(cè)量和分析與晶圓級(jí)測(cè)量集于一身，從而能夠管理完整的晶圓級(jí)表征。是德科技的A-LFNA與WaferProExpress軟件完美集成，能夠提供這樣的功能。該綜合解決方案有助于工程師對(duì)晶圓級(jí)以及封裝的各類元件、單獨(dú)器件和集成電路進(jìn)行噪聲測(cè)量。與以前一樣，使用WaferProExpress的工程師可以通過編程執(zhí)行快速直流、電容和射頻S參數(shù)測(cè)量，并可排列測(cè)量順序，同時(shí)自動(dòng)化控制探針臺(tái)?，F(xiàn)在，隨著噪聲測(cè)量模塊的推出，他們能將噪聲測(cè)量和分析添加到測(cè)試套件中。

　　ALFNA內(nèi)置的測(cè)量程序能進(jìn)行完整的直流和噪聲測(cè)量。例如，為了測(cè)量N型MOSFET上的噪聲，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)選擇能最好地呈現(xiàn)固有器件噪聲的源和負(fù)載阻抗。工程師可以采用這些建議的設(shè)置，也可以對(duì)其做出更改，然后啟動(dòng)噪聲測(cè)量。A-LFNA會(huì)對(duì)噪聲功率譜密度(1/f噪聲)和時(shí)域的RTN噪聲進(jìn)行測(cè)量。得出的數(shù)據(jù)在多圖數(shù)據(jù)顯示窗口中繪圖顯示。各種窗口選項(xiàng)卡有助于執(zhí)行常見的任務(wù)，如評(píng)測(cè)器件的直流工作點(diǎn)，以及測(cè)量功率譜密度曲線的斜率。使用是德科技的ModelBuilderProgram(MBP)和IC-CAP等器件建模工具，也可以通過器件模型對(duì)噪聲數(shù)據(jù)進(jìn)行分析并顯示結(jié)果。電路設(shè)計(jì)人員能夠使用這些器件模型來確保高精度的射頻和模擬低噪聲電路設(shè)計(jì)。

　　是德科技副總裁兼設(shè)計(jì)與測(cè)試軟件事業(yè)部總經(jīng)理ToddCutler表示：“我們的客戶在進(jìn)行器件表征和建模時(shí)，會(huì)面臨不同的測(cè)試需求，包括氮化鎵可靠性、CMOS建模和磁性傳感器測(cè)試等。通過A-LFNA的新軟件用戶界面，我們?yōu)榭蛻籼峁┝霜?dú)一無(wú)二的能力，使其能對(duì)晶圓上的器件噪聲進(jìn)行測(cè)量和建模，同時(shí)還為他們提供了全面、靈活的測(cè)量選項(xiàng)，用于測(cè)量從直流到電容再到微波頻率S參數(shù)的各方面特性”。

　　是德科技的A-LFNA具有業(yè)界領(lǐng)先的噪聲靈敏度(-183dBV2/Hz)，器件建模和電路表征工程師能用它來快速、準(zhǔn)確地表征高壓(200V)和超低頻率(0.03Hz)的器件。這種能力使其非常適用于半導(dǎo)體工廠開發(fā)制程設(shè)計(jì)套件，以及在器件制造過程中進(jìn)行統(tǒng)計(jì)制程控制。運(yùn)算放大器和線性穩(wěn)壓器的IC制造商還可以使用A-LFNA來表征其技術(shù)資料中的輸出電壓噪聲技術(shù)指標(biāo)。